[发明专利]清洗剂和碳化硅单晶基板的制造方法无效
| 申请号： | 201280061689.8 | 申请日： | 2012-11-21 |
| 公开（公告）号： | CN103987832A | 公开（公告）日： | 2014-08-13 |
| 发明（设计）人： | 吉田伊织;宫谷克明 | 申请（专利权）人： | 旭硝子株式会社 |
| 主分类号： | C11D7/26 | 分类号： | C11D7/26;H01L21/304 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 王海川;穆德骏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供对于利用含有锰化合物的研磨剂研磨后的碳化硅单晶基板利用安全且简便的方法有效地清洗残留、附着于基板表面的锰成分的清洗剂。本发明涉及一种清洗剂，其用于对利用含有锰化合物的研磨剂研磨后的碳化硅单晶基板进行清洗，所述清洗剂中，含有抗坏血酸和异抗坏血酸中的至少一种，并且pH为6以下。 | ||
| 搜索关键词： | 洗剂 碳化硅 单晶基板 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种清洗剂，其用于对利用含有锰化合物的研磨剂研磨后的碳化硅单晶基板进行清洗，所述清洗剂中，含有抗坏血酸和异抗坏血酸中的至少一种，并且pH为6以下。
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