[发明专利]配置为使用电磁辐射从基板移除涂层的系统

摘要

一种移除系统被配置为从组件的基板移除涂层。第一能量源和第二能量源每个都被配置为将电磁辐射引导到组件上，电磁辐射产生相应的第一特性和第二特性。传感器检测由第一电磁辐射流和第二电磁辐射流产生的第一特性和第二特性。控制器被设置为从传感器接收检测到的第一特性和第二特性，以及从相应的第一能量源和第二能量源接收相关的第一功率水平和第二功率水平。响应于从传感器接收的第一特性和第二特性以及从第一能量源和第二能量源接收的相关的功率水平，控制器将更新的功率水平发送到第一能量源和第二能量源中的至少一个中。

主权项

一种移除系统，其被配置为从组件的基板移除涂层，所述系统包括：第一能量源，其被配置为被以第一功率水平赋能，以将第一电磁辐射流引导到所述组件上，以便所述第一电磁辐射流产生所述组件上的第一特性；第二能量源，其被配置为被以第二功率水平赋能，以将第二电磁辐射流引导到所述组件上，以便所述第二电磁辐射流产生所述组件上的第二特性；传感器，其被配置为检测由所述第一电磁辐射流和所述第二电磁辐射流产生的所述第一特性和所述第二特性；控制器，其可操作地连接到所述第一能量源和所述第二能量源以及所述传感器；其中，所述控制器被配置为从所述传感器接收检测到的所述第一特性和所述第二特性，以及从分别的所述第一能量源和所述第二能量源接收相关的所述第一功率水平和所述第二功率水平；以及其中，所述控制器被配置为响应于从所述传感器接收的所述第一特性和所述第二特性以及从所述第一能量源和所述第二能量源接收的相关的所述功率水平，将更新的第一功率水平和第二功率水平发送到所述第一能量源和所述第二能量源中的至少一个能量源。