[发明专利]离子植入机与离子植入法有效

专利信息
申请号: 201280064441.7 申请日: 2012-11-02
公开(公告)号: CN104011826B 公开(公告)日: 2017-06-23
发明(设计)人: 威廉·T·维弗;查理斯·T·卡尔森;约瑟·C·欧尔森;詹姆士·布诺德诺;保罗·沙利文 申请(专利权)人: 瓦里安半导体设备公司
主分类号: H01J37/20 分类号: H01J37/20;H01J37/302;H01J37/317
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司11205 代理人: 臧建明
地址: 美国麻萨诸塞*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种离子植入机与离子植入法。离子植入机(100)的一实施例包括离子源(101)及处理腔室(102)。此处理腔室连接至离子源并藉由多个提取电极(114)与离子源分离。载具(201)固持多个工件(202)。屏蔽装载器(205)位于处理腔室中且使屏蔽(203)与载具连接。传送腔室(104)及加载锁(105、106)可与处理腔室连接。此离子植入机装配成对工件进行毯覆式或选择性植入。
搜索关键词: 高产 离子 植入
【主权项】:
一种离子植入机,包括:离子源;处理腔室,连接至所述离子源并藉由多个提取电极与所述离子源分离;载具,装配成固持多个工件;扫描机械手臂,所述载具可移除地附接至所述扫描机械手臂,所述扫描机械手臂装配成输送所述载具穿过自所述离子源引导出的离子束;以及屏蔽装载器,位于所述处理腔室中,其中所述屏蔽装载器装配成当所述载具附接至所述扫描机械手臂时使屏蔽与所述载具连接,其中所述屏蔽具有足够大的尺寸以覆盖所述多个工件。
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