[发明专利]光刻设备、器件制造方法有效
| 申请号： | 201280065095.4 | 申请日： | 2012-12-05 |
| 公开（公告）号： | CN104040433A | 公开（公告）日： | 2014-09-10 |
| 发明（设计）人： | H·巴特勒;A·布里克;P·亨纳斯;M·胡克斯;S·A·J·霍尔;H·范德斯库特;B·斯拉格海克;P·蒂纳曼斯;M·范德威吉斯特;K·扎尔;T·P·M·卡迪;R·比尔恩斯;O·菲思克尔;W·安吉内恩特;N·J·M·博施 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 吴敬莲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种曝光设备(1)，包括：投射系统(12，14)，配置成将多个辐射束投射到目标上；可移动框架(8)，其至少能够围绕轴线(10)旋转；以及致动器系统(11)，配置成将可移动框架位移至远离与可移动框架的几何中心对应的轴线的轴线并引起框架围绕通过框架的质心的轴线旋转。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种曝光设备，包括：投射系统，所述投射系统配置将多个辐射束投射到目标上；可移动框架，所述可移动框架至少能够围绕轴线旋转；致动器系统，用以使可移动框架旋转；和控制器，用以调节可移动框架的位置，以至少部分地补偿可移动框架的不平衡或另一可移动框架的不平衡。
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