[发明专利]微气泡发生装置及回旋流发生装置有效
申请号: | 201280065912.6 | 申请日: | 2012-12-21 |
公开(公告)号: | CN104023833A | 公开(公告)日: | 2014-09-03 |
发明(设计)人: | 嵯峨秀一;浅里信之 | 申请(专利权)人: | 霓达株式会社 |
主分类号: | B01F5/02 | 分类号: | B01F5/02;B01F3/04;B01F5/00 |
代理公司: | 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 | 代理人: | 程伟;王锦阳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及一种微气泡发生装置及回旋流发生装置,在微气泡发生装置(10)中形成纵向贯通其主体(11)的孔(12)。将孔(12)的一方作为喷嘴(15)配置气液混合空间(16),在另一端设置液体供给部(17)。在气液混合空间(16)和液体供给部(17)之间设置收容回旋流形成体(18)的回旋流形成体收容空间(19)。在回旋流形成体(18)的外周部(181)的外周面设置一对环状突起部(184、185),将其两侧用O型环(25、26)气密。在主体(11)上,在与由突起部(184、185)气密地区划的环状空间(22)相对应的位置设置横孔(13),同时,在回旋流形成体(18)的主体(180)上设置与气液混合空间(16)连通的气体通路。从设于回旋流形成体(18)的螺旋斜坡(186(187))向气液混合空间(16)内喷出高压液体。 | ||
搜索关键词: | 气泡 发生 装置 回旋 | ||
【主权项】:
一种回旋通路形成体,其安装于微气泡发生装置中,该微气泡发生装置,将通过螺旋通路进行了加压的液体向喷嘴内的气液混合空间供给,产生回旋流,使用利用所述回旋流产生的负压将气体导入所述气液混合空间,由此形成气液二相回旋流,通过将所述气液二相回旋流从所述喷嘴喷出,将气液二相流体剪断,产生微气泡,所述回旋通路形成体的特征在于,具备:主体,其具有圆筒部;外周部,其具有与所述圆筒部同轴的圆筒内周面;螺旋斜坡,其形成于所述主体和所述外周部之间;厚壁部,其在所述螺旋斜坡的始端部将所述圆筒部和所述外周部之间连结起来;第一气体通路,其沿所述圆筒部的中心轴形成;第二气体通路,其通过所述厚壁部内将所述第一气体通路连结到所述外周部的外侧。
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