[发明专利]用于电沉积光滑薄膜的方法和电解质有效
申请号: | 201280067088.8 | 申请日: | 2012-12-18 |
公开(公告)号: | CN104040034B | 公开(公告)日: | 2017-08-25 |
发明(设计)人: | 张继光;许武;G·L·格拉夫;X·陈;Y·邵;F·丁 | 申请(专利权)人: | 巴特尔纪念研究院 |
主分类号: | C25D5/10 | 分类号: | C25D5/10;C25D3/02 |
代理公司: | 北京北翔知识产权代理有限公司11285 | 代理人: | 侯婧,钟守期 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种涉及含有表面光滑添加剂的电解质的电沉积,其可产生初始凸起尖端的自修复,而非自生长,所述凸起尖端会导致在基底和/或薄膜表面上形成粗糙和/或支晶。为了从电解质溶液中的一种或多种反应物将第一导电材料(C1)电沉积在基底上,所述电解质溶液的特征在于,一种可溶性表面光滑添加剂,所述表面光滑添加剂中含有第二导电材料(C2)的阳离子,其中C2的阳离子在溶液中的有效电化学还原电势低于反应物的有效电化学还原电势。 | ||
搜索关键词: | 用于 沉积 光滑 薄膜 方法 电解质 | ||
【主权项】:
一种电解质溶液,其用于从电解质溶液中的一种或多种反应物将第一导电材料C1电沉积在基底上,所述电解质溶液的特征在于可溶的表面光滑添加剂,所述可溶的表面光滑添加剂中含有第二导电材料C2的阳离子,其中C2的阳离子(a)具有的标准电化学还原电势高于反应物的电化学还原电势和(b)在溶液中所具有的活性使得其在溶液中的有效电化学还原电势低于一种或多种反应物的有效电化学还原电势,其中C2的阳离子为金属阳离子,并且其中C2的阳离子的浓度小于或等于一种或多种反应物的阳离子或单体的浓度的10%,并且其中如果C1为Li且C2为K,则K+的浓度大于0.05M。
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