[发明专利]用于石墨烯纳米结构的DNA定义的蚀刻的方法

摘要

本发明提供了利用有预定DNA形状的DNA样品来蚀刻石墨烯的方法。将DNA样品优选置于一块高定向热解石墨(HOPG)的反应区上，然后优选将DNA样品和HOPG置于湿度控制室内。向HOPG优选应用湿度以产生横跨DNA样品表面的水膜。还向HOPG施加电势以产生用于蚀刻过程的电势能。蚀刻完成后，通常用去离子水漂洗反应区。

主权项

用于蚀刻石墨烯纳米结构的方法，其包括：提供一高定向热解石墨块，其包含第一窗口、第二窗口和第三窗口，其中所述第一窗口和所述第二窗口包括一个或多个配置为接收电压的电极接头，以及其中所述第三窗口的一部分包括配置为接收DNA样品的反应区；加热及融化所述DNA样品；将所述DNA样品冷却至室温以分离所述DNA样品的双链并且产生单链DNA的一个或多个节段，从而形成经加热且经冷却的DNA样品；用缓冲溶液稀释所述DNA样品；将包含所述DNA样品的所述缓冲溶液沉积到所述反应区中；孵育所述反应区；用去离子水漂洗所述反应区以去除所述缓冲溶液和任何过量的DNA样品；将所述高定向热解石墨块置于湿度控制室内；向所述高定向热解石墨块应用湿度；以及横跨所述第一窗口和所述第二窗口施加电压，由此蚀刻所述高定向热解石墨块的表面；其中所述缓冲溶液由0.5‑1.5摩尔氯化钾；8‑12毫摩尔三(羟甲基)氨基甲烷盐酸盐；以及8‑12毫摩尔乙二胺四乙酸组成；其中所述电压为2‑6V/mm的电压梯度；以及其中所述应用的相对湿度为60‑90％。