[发明专利]密封的薄膜器件以及修复方法、修复系统

摘要

本发明涉及一种密封的薄膜器件(10，12，14，15，16，17，18)，涉及一种用于修复涂覆到薄膜器件(30)的密封层(20)以产生密封的薄膜器件的方法，涉及一种用于修复涂覆到薄膜器件的密封层以生成密封的薄膜器件的系统(200)，并且涉及一种计算机程序产品。密封的薄膜器件包括薄膜器件和用于保护薄膜器件免受环境影响而涂覆在薄膜器件上的密封层。密封层至少包括第一阻挡层和第二阻挡层(22，24)和在第一阻挡层和第二阻挡层之间设置的吸气层(25)。密封的薄膜器件还包括局部涂覆的修补材料(40；42，44)，用于密封在所述阻挡层中的外部阻挡层(22)中的局部缺口(50)。此密封的薄膜器件的效果是密封的薄膜器件的使用寿命得以提高。此外，生产密封的薄膜器件的成品率得以提高。

主权项

一种密封的薄膜器件(10，12，14，15，16，17，18，19)，包括薄膜器件(30)和密封层(20，80)，所述密封层被涂覆到所述薄膜器件(30)以保护所述薄膜器件(30)免受环境影响，所述密封层至少包括第一阻挡层和第二阻挡层(22，24)，所述第一阻挡层和第二阻挡层中的外部阻挡层(22)具有局部缺口(50)，所述局部缺口通过局部涂覆的修补材料(42)而被密封，其特征在于，在所述第一阻挡层和第二阻挡层(22，24)之间存在吸气层(25)，所述吸气层包括吸气材料，其中，所述吸气层的吸气材料在所述密封的局部缺口(50)的位置处具有能检测的偏差(27)，并且所述修补材料(42)被直接涂覆在所述第一阻挡层和第二阻挡层中的外部阻挡层(22)上或者被直接涂覆在黏附层上，所述黏附层被直接涂覆在所述第一阻挡层和第二阻挡层中的外部阻挡层(22)上。