[发明专利]光学涂覆方法、设备和产品

摘要

本发明涉及用于制备具有光学涂层和在该光学涂层上的易清洁涂层的玻璃制品的方法，涉及用于所述方法的设备以及涉及使用所述方法制备的产品。具体来说，本发明涉及一种方法，其中可使用单一设备连续地实施所述光学涂层和易清洁涂层的施涂。使用本文所述的涂覆设备和衬底载体的组合，得到具有光学涂层和易清洁涂层的玻璃制品，该玻璃制品具有改善的耐刮擦耐久性和光学性能，此外所得制品是“不含阴影的”。

主权项

一种用于制备玻璃制品的方法，所述玻璃制品具有光学涂层和在所述光学涂层顶部的易清洁(ETC)涂层，所述方法包括：提供涂覆设备，该涂覆设备具有用于沉积光学涂层和ETC涂层的真空室；在所述真空室内提供可旋转的磁性穹顶，用于磁性地设置磁性衬底载体，该衬底载体用于在该载体上接纳待涂覆的玻璃衬底；在所述真空室内提供用于光学涂层的源材料和用于ETC涂层的源材料；把所述玻璃衬底装载至所述磁性衬底载体上，并把具有所述玻璃衬底的所述磁性衬底载体磁性地连接至所述可旋转的磁性穹顶；排空所述真空室；旋转所述可旋转的磁性穹顶并在玻璃衬底上沉积光学涂层；旋转所述可旋转的磁性穹顶并于沉积所述光学涂层之后在所述光学涂层顶部沉积ETC涂层，其中在沉积所述ETC涂层之前所述光学涂层没有暴露于环境气氛；以及从所述真空室取出具有所述光学涂层和所述ETC涂层的所述玻璃衬底，来获得包括沉积在所述玻璃衬底上的光学涂层以及沉积在所述光学涂层上的ETC涂层的玻璃衬底,从所述光学涂层的第一边缘到光学涂层的第二边缘的光学涂层的厚度变化小于4％。