[发明专利]大面积光学质量合成多晶金刚石窗户有效
申请号: | 201280068522.4 | 申请日: | 2012-12-13 |
公开(公告)号: | CN104160061B | 公开(公告)日: | 2017-10-10 |
发明(设计)人: | P·N·英格利斯;J·R·布莱顿;J·M·多德森;T·P·莫拉特 | 申请(专利权)人: | 六号元素技术有限公司 |
主分类号: | C23C16/01 | 分类号: | C23C16/01;C23C16/27;H01J37/32;C23C16/44;C23C16/56;C23C16/455;C23C16/458;C23C16/46 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 | 代理人: | 曾祥生 |
地址: | 英国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及一种多晶化学气相沉积的(CVD)金刚石晶圆,其包括最大线性尺寸等于或大于70mm;厚度等于或大于1.3mm;以及在室温(标称的298K)下测量的、多晶CVD金刚石晶圆的至少中心区域上的以下特征中的一个或两个在10.6μm下吸收系数≤0.2cm‑1;和在145GHz下介电损失系数为tanδ≤2×10‑4,所述中心区域是圆形的,以多晶CVD金刚石晶圆的中心点为中心,并且具有的直径为多晶CVD金刚石晶圆的最大线性尺寸的至少70%。 | ||
搜索关键词: | 大面积 光学 质量 合成 多晶 金刚石 窗户 | ||
【主权项】:
一种多晶化学气相沉积的金刚石晶圆,其包括:最大线性尺寸等于或大于70mm;厚度等于或大于1.3mm;以及在室温下测量的、多晶化学气相沉积的金刚石晶圆的至少中心区域上的以下特征:在145GHz下介电损失系数为tanδ≤5×10‑5;和导热率不小于1900Wm‑1K‑1,所述中心区域是圆形的,以多晶化学气相沉积的金刚石晶圆的中心点为中心,并且具有的直径为多晶化学气相沉积的金刚石晶圆的最大线性尺寸的至少70%。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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