[发明专利]离子有机硅和含有它的组合物有效
申请号: | 201280070789.7 | 申请日: | 2012-12-14 |
公开(公告)号: | CN104136562A | 公开(公告)日: | 2014-11-05 |
发明(设计)人: | A.萨克塞纳;A.萨卡尔;S.蒂瓦里 | 申请(专利权)人: | 莫门蒂夫性能材料股份有限公司 |
主分类号: | C09D183/06 | 分类号: | C09D183/06;C09D183/08;C09D183/12;C08G77/12;C08G77/14;C08G77/20;C08G77/24;C08G77/26;C08G77/28;C08G77/46;A61K8/894;A61K8/895;A61K8/896 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 沈斌 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本申请提供了包括式(I)的有机硅的官能化离子有机硅组合物:M1a M2bM3cD1d D2e D3f T1g T2h T3i Qj (I),其含有带有离子对且具有式(II)的单价基团:–A-Ix-Mny+;其中A是具有至少2个间隔原子的间隔基团,选自二价烃或烃氧基团,其中I是离子基团如磺酸根–SO3-、羧酸根–COO-、膦酸根–PO32-基团和磷酸根–OPO32-,其中M是氢或独立地选自碱金属、碱土金属、过渡金属、金属、季铵基团和磷鎓基团的阳离子;或,具有式(III)的两性离子:-R'-NR2+-R'-I(III),其中I如上所定义,其中下标a、b、c、d、e、f、g、h、i、j为0或正数,它们满足如下限制:2≤a+b+c+d+e+f+g+h+i+j≤6000,b+e+h>0和c+f+i>0。 | ||
搜索关键词: | 离子 有机硅 含有 组合 | ||
【主权项】:
具有式(I)的官能化离子有机硅:M1a M2b M3cD1d D2e D3f T1g T2h T3i Qj (I)其中:M1=R1R2R3SiO1/2M2=R4R5R6SiO1/2M3=R7R8R9SiO1/2D1=R10R11SiO2/2D2=R12R13SiO2/2D3=R14R15SiO2/2T1=R16SiO3/2T2=R17SiO3/2T3=R18SiO3/2Q=SiO4/2其中R1、R2、R3、R5、R6、R8、R9、R10、R11、R13、R15、R16是含有1至约60个碳原子的脂族、芳族或含氟单价烃基团;其中R4、R12、R17是带有离子对的单价基团且具有式(II):–A‑Ix‑Mny+; (II)其中A是具有至少1个间隔原子的间隔基团,选自二价烃或烃氧基团,其中I是离子基团如磺酸根–SO3‑、硫酸根–OSO32‑、羧酸根–COO‑、膦酸根–PO32‑和磷酸根–OPO32‑基团,其中M是氢或阳离子,所述阳离子独立地选自碱金属、碱土金属、过渡金属、金属、金属络合物、季铵基团和磷鎓基团、有机阳离子、烷基阳离子、阳离子烃和阳离子生物聚合物;或,具有式(III)的两性离子:‑R'‑NR2+‑R'‑I (III)其中R'是含有1至约20个碳原子的二价烃基团,其中R是含有1至约20个碳原子的单价烃基团和其中R'是含有2至约20个碳原子的二价烃基团;其中I如上定义,其中R7、R18各自独立地为单价烃基团,所述单价烃基团选自‑OR20,氢,不饱和单价基团,单价的含环氧基的基团,单价的含硫原子的基团,单价有机基硅烷基团和单价的含羟基基团,以及单价烃,所述单价烃除了烷基部分之外还含有叔胺部分、卤素部分、羧酸酯(根/盐)部分、亚胺部分、异氰酸酯部分、酰胺部分、或腈部分中的一个或多个,其中R14各自独立地为单价烃基团,所述单价烃基团选自‑OR20,不饱和单价基团,单价的含环氧基的基团,单价的含硫原子的基团,单价有机基硅烷基团和单价的含羟基基团,以及单价烃,所述单价烃除了烷基部分之外还含有叔胺部分、卤素部分、羧酸酯(根/盐)部分、亚胺部分、异氰酸酯部分、酰胺部分、或腈部分中的一个或多个,其中R20是含有1至约60个碳原子的单价烃基团或杂原子,其中上标x和y独立地为1至6,并且x是n和y的乘积,其中下标a、b、c、d、e、f、g、h、i、j为0或正数,它们满足如下限制:总和a+b+c+d+e+f+g+h+i+j大于或等于2且小于或等于6000,b+e+h大于0,和c+f+i大于0。
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