[发明专利]具有规则埃级孔的石墨烯膜有效
申请号: | 201280071545.0 | 申请日: | 2012-01-26 |
公开(公告)号: | CN104204796A | 公开(公告)日: | 2014-12-10 |
发明(设计)人: | S·A·米勒;G·L·迪尔克森 | 申请(专利权)人: | 英派尔科技开发有限公司 |
主分类号: | G01N33/487 | 分类号: | G01N33/487 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 庞东成;解延雷 |
地址: | 美国特*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明主要描述了关于穿孔石墨烯单层及含有穿孔石墨烯单层的膜的技术方案。本发明的示例性膜可以包括下述石墨烯单层,所述石墨烯单层具有多个不连续孔,所述多个不连续孔化学穿孔于石墨烯单层中。不连续孔可以具有基本均一的孔径。该孔径的特征在于石墨烯单层中的一个或多个碳空位缺陷。石墨烯单层各处可以具有基本均一的孔径。在一些实例中,膜可以包括可渗透性基板,所述基板与石墨烯单层接触并且可以支持石墨烯单层。与气体分离用常规聚合膜相比,这种穿孔石墨烯单层和包含这种穿孔石墨烯单层的膜可以表现出改进的性质,例如更高的选择性或更高的气体透过率等。 | ||
搜索关键词: | 具有 规则 埃级孔 石墨 | ||
【主权项】:
一种膜,所述膜包括:石墨烯单层,所述石墨烯单层包含多个不连续孔,所述多个不连续孔化学穿孔于石墨烯单层中,所述多个不连续孔各自具有基本均一的孔径,所述多个不连续孔各自的特征在于所述石墨烯单层中的一个或多个碳空位缺陷,使得所述石墨烯单层各处具有基本均一的孔径。
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