[发明专利]氧化铝的制造方法有效
| 申请号： | 201280072297.1 | 申请日： | 2012-04-10 |
| 公开（公告）号： | CN104220373A | 公开（公告）日： | 2014-12-17 |
| 发明（设计）人： | 东纪史;山本浩二 | 申请（专利权）人： | 住友化学株式会社 |
| 主分类号： | C01F7/30 | 分类号： | C01F7/30;C01F7/36;C01F7/44;C04B22/06 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 高旭轶;徐厚才 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种氧化铝的制造方法，其能够获得防止再聚集颗粒的发生和污染、聚集颗粒少、异物少的高纯度氧化铝。其具备如下工序：对氢氧化铝进行煅烧，从而生成氧化铝煅烧体的煅烧工序S11，所述氢氧化铝是通过对烷醇铝进行水解而得到的，且通过压汞法测得的累积细孔容积（细孔半径在0.01μm以上且1μm以下的范围）为0.6mL/g以上；以及，使用气流式粉碎机，将穿过该气流式粉碎机的粉碎室内时的速度设为500m/s以上，对氧化铝煅烧体进行粉碎的粉碎工序S12。 | ||
| 搜索关键词： | 氧化铝 制造 方法 | ||
【主权项】：
氧化铝的制造方法，其具备如下工序：对氢氧化铝进行煅烧，从而生成氧化铝煅烧体的煅烧工序，所述氢氧化铝是通过对烷醇铝进行水解而得到的，且通过压汞法测得的累积细孔容积为0.6mL/g以上，对于所述累积细孔容积而言，细孔半径在0.01μm以上且1μm以下的范围；以及，使用气流式粉碎机，将穿过该气流式粉碎机的粉碎室内时的速度设为500m/s以上，对所述氧化铝煅烧体进行粉碎的粉碎工序。
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