[发明专利]曝光装置、掩模及光学膜

摘要

曝光装置变得复杂。一种曝光装置，其具备输送部、第一偏振光输出部、第二偏振光输出部、第一掩模部及第二掩模部，所述输送部沿输送方向输送形成有取向膜的基材；所述第一偏振光输出部朝向取向膜，输出第一偏振光方向的第一偏振光；所述第二偏振光输出部配置于输送方向上比第一偏振光输出部靠下游侧，朝向取向膜输出第二偏振光方向的第二偏振光，所述第二偏振光方向以小于90°的角度与第一偏振光方向交叉；所述第一掩模部配置于基材与第一偏振光输出部之间，形成有使对取向膜进行曝光的第一偏振光透过的第一开口部，并对第一偏振光进行遮光；所述第二掩模部配置于基材与第二偏振光输出部之间，形成有使对取向膜进行曝光的第二偏振光透过的第二开口部，并对第二偏振光进行遮光；第一开口部及第二开口部形成为对具有取向膜的某个区域进行重复曝光；第一开口部包含使第一偏振光朝向区域透过的第一开口区域；第二开口部包含使第二偏振光朝向区域透过的第二开口区域。

主权项

一种曝光装置，其具备输送部、第一偏振光输出部、第二偏振光输出部、第一掩模部及第二掩模部；所述输送部沿输送方向输送形成有取向膜的基材；所述第一偏振光输出部朝向所述基材的所述取向膜，输出具有第一偏振光方向的第一偏振光；所述第二偏振光输出部朝向所述基材的所述取向膜，配置于所述输送方向上比所述第一偏振光输出部靠下游侧，输出具有第二偏振光方向的第二偏振光，所述第二偏振光方向以小于90°的角度与所述第一偏振光方向交叉；所述第一掩模部配置于所述基材与所述第一偏振光输出部之间，形成有使对所述取向膜进行曝光的所述第一偏振光透过的第一开口部，并对所述第一偏振光进行遮光；所述第二掩模部配置于所述基材与所述第二偏振光输出部之间，形成有使对所述取向膜进行曝光的所述第二偏振光透过的第二开口部，并对所述第二偏振光进行遮光；所述第一开口部及所述第二开口部形成为对具有所述取向膜的区域进行重复曝光；所述第一开口部包含使所述第一偏振光朝向所述区域透过的第一开口区域；所述第二开口部包含使所述第二偏振光朝向所述区域透过的第二开口区域。