[发明专利]物质暴露装置有效
申请号: | 201280076891.8 | 申请日: | 2012-09-13 |
公开(公告)号: | CN104797699B | 公开(公告)日: | 2019-04-19 |
发明(设计)人: | J·J·库珀-怀特;D·M·蒂特马施 | 申请(专利权)人: | 昆士兰大学 |
主分类号: | C12M1/00 | 分类号: | C12M1/00;B01L3/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 殷骏 |
地址: | 澳大利亚*** | 国省代码: | 澳大利亚;AU |
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摘要: | 一种装置,其包括:包含若干个孔通道的孔阵列,其中每个孔通道在所述孔通道中包含多个孔,所述孔含有使用中的物质;用于接收各自流体的一个或多个入口;和偶联至所述一个或多个入口的通道,所述通道用于将一种或多种流体选择性地供应至每个孔通道,以由此将所述物质暴露于不同的条件,从而允许测定所述物质对所述条件的应答。 | ||
搜索关键词: | 物质 暴露 装置 | ||
【主权项】:
1.用于将物质暴露于条件的装置,所述装置包括:a)包含若干个孔通道的孔阵列,其中每个孔通道包含沿着所述孔通道分隔开的多个孔,所述孔含有使用中的物质;b)多个入口组,每个入口组包括用于接收各自的第一和第二流体的第一和第二入口,每个入口组接收各自第一流体,并且来自一个入口组的流体通过混合,与之后的入口组的流体合并,从而合并各流体;c)偶联至所述多个入口组的入口的通道,所述通道用于将一种或多种流体选择性地供应至每个孔通道,以由此将所述物质暴露于不同的条件,从而允许测定所述物质对所述条件的应答,其中每个通道分流将流体供应至至少两个孔通道且其中至少两个通道组合以将流体的混合物供应至至少一个孔通道;和d)基底和覆盖层,其中所述覆盖层包括第一和第二层,并且其中至少一个入口组被提供在所述第二层中用于将各自流体通过在第二层中的通道供应至所述第一层中的通道,在第二层中所述至少一个入口组的每个入口通过第二层中的通道与第二层中的多个端口相连,在第二层中的所述端口与在第一层中的相应端口对齐,从而从第二层中所述至少一个入口组的入口供应流体,并且其中所述孔被限定在所述基底和所述覆盖层的至少一个中。
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