[发明专利]ALD反应器中的衬底装载在审
申请号: | 201280077254.2 | 申请日: | 2012-11-23 |
公开(公告)号: | CN104812938A | 公开(公告)日: | 2015-07-29 |
发明(设计)人: | V·基尔皮;J·科斯塔莫;W-M·李 | 申请(专利权)人: | 皮考逊公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/458 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 陈文平;侯宝光 |
地址: | 芬兰*** | 国省代码: | 芬兰;FI |
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摘要: | 本发明涉及一种仪器和方法,所述仪器和方法用于将多个衬底装载到沉积反应器的装载室中的衬底支架内以在所述衬底支架内形成水平定向的衬底的垂直堆叠,用于转动衬底支架以形成垂直定向的衬底的水平堆叠,和用于将所述衬底支架下降至所述沉积反应器的反应室内用于沉积。获得的技术效果是:用于垂直流沉积反应器的顶部装载系统,其中衬底可以以水平定向装载,通过翻转整个衬底支架而消除了分别翻转每一个衬底的必要,和最小化了反应器集群中的装载距离。 | ||
搜索关键词: | ald 反应器 中的 衬底 装载 | ||
【主权项】:
一种方法,其包括:将多个衬底装载到沉积反应器的装载室中的衬底支架内,以在所述衬底支架内形成水平定向的衬底的垂直堆叠;和转动所述衬底支架以形成垂直定向的衬底的水平堆叠,并且将所述衬底支架下降至所述沉积反应器的反应室内用于沉积。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的