[发明专利]岩石中痕量铪的分离纯化方法有效

专利信息
申请号: 201310001366.6 申请日: 2013-01-04
公开(公告)号: CN103045862A 公开(公告)日: 2013-04-17
发明(设计)人: 凡金龙;张生栋;丁有钱;杨磊;杨志红 申请(专利权)人: 中国原子能科学研究院
主分类号: C22B3/24 分类号: C22B3/24;C22B34/14;G01N1/40
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
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摘要: 发明属于放化分离技术领域,公开了岩石中痕量铪的分离纯化方法,该方法包括以下两个步骤:(1)将岩石样品溶解后,调节为HNO3介质作为上柱液上P350柱,然后用淋洗剂HNO3洗涤、解吸剂HNO3-HCl解吸Hf。(2)将步骤(1)中的Hf样品调节为H2SO4-Cit混合液介质,用N1923-二甲苯萃取得到有机相,有机相用H2SO4-Cit混合液洗涤,然后用HCl-HF混合液反萃,反萃液上TOA色层柱,并用HCl-HF洗涤柱子,流出液为纯化后的Hf产品液。该方法具有分离流程简单、Hf回收率>98%、去污因子高的优点。
搜索关键词: 岩石 痕量 分离 纯化 方法
【主权项】:
岩石中痕量铪的分离纯化方法,该方法包括分离和纯化两个阶段,其特征在于,该方法包括以下两个步骤:(1)将岩石样品溶解后,调节为HNO3介质作为上柱液上P350柱,然后用淋洗剂HNO3洗涤,最后用解吸剂HNO3‑HCl解吸Hf;(2)将步骤(1)中的Hf样品调节为H2SO4‑Cit混合液介质,用N1923‑二甲苯萃取得到有机相,有机相用H2SO4‑Cit混合液洗涤,然后用HCl‑HF混合液反萃,反萃液上TOA色层柱,并用HCl‑HF洗涤柱子,流出液为纯化后的Hf产品液。
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