[发明专利]一种欧姆接触电极、其制备方法及包含该欧姆接触电极的半导体元件有效

专利信息
申请号: 201310006807.1 申请日: 2013-01-07
公开(公告)号: CN103077963A 公开(公告)日: 2013-05-01
发明(设计)人: 卢洋藩;顾建龙;叶志镇;陈匆;吴惠敏;汪雷;陈凌翔;叶春丽;李霞 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: H01L29/45 分类号: H01L29/45;H01L21/28
代理公司: 浙江杭州金通专利事务所有限公司 33100 代理人: 刘晓春
地址: 310027*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种置于n型宽带隙半导体基底上的欧姆接触电极、其制备方法及包含该欧姆接触电极的半导体元件。该欧姆接触电极包括置于n型宽带隙半导体基底上的金属电极层,所述金属电极层的第一电极层是Ti金属层,第二电极层是Ni金属层,第三电极层是Ti金属层,第四电极层是热惰性金属层。其制备方法包括在n型宽带隙半导体基底表面制备出电极图案,再采用真空热电子束蒸发或溅射法在基底上依次沉积Ti金属、Ni金属、Ti金属和热惰性金属层。本发明可以提供n型宽带隙半导体基底上具有低接触电阻率、热稳定性和热平整性的欧姆接触电极,及具有该欧姆接触电极的半导体元件。
搜索关键词: 一种 欧姆 接触 电极 制备 方法 包含 半导体 元件
【主权项】:
一种置于n型宽带隙半导体基底上的欧姆接触电极,其特征在于:所述的电极包括置于n型宽带隙半导体基底(1)上的金属电极层,所述金属电极层的第一电极层(2)是Ti金属层,第二电极层(3)是Ni金属层,第三电极层(4)是Ti金属层,第四电极层(5)是热惰性金属层。
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