[发明专利]一种X射线实时高清晰成像荧光材料有效
申请号: | 201310007463.6 | 申请日: | 2013-01-09 |
公开(公告)号: | CN103045263A | 公开(公告)日: | 2013-04-17 |
发明(设计)人: | 郑岩;边静宇;余锡宾;赵谡玲 | 申请(专利权)人: | 上海洞舟实业有限公司 |
主分类号: | C09K11/84 | 分类号: | C09K11/84 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 201619*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种X射线实时高清晰成像荧光材料,其特征是:基质材料为Y、Gd、Lu中的一种,其中添加含有Tb的酸性化合物的主激活剂,添加含有Dy的酸性化合物中的共激活剂,使用水热合成法,在温度230度,保持时间2-5小时;再烘干,制备出纳米50-300纳米的发光材料;该材料在X射线激发下,发射640nm可见光,该材料有较小的颗粒适合精细医学成像、工业微小器件检测、生物标记体内诊断。 | ||
搜索关键词: | 一种 射线 实时 清晰 成像 荧光 材料 | ||
【主权项】:
一种X射线实时高清晰成像荧光材料,其特征是:基质材料为Y、Gd、Lu中的一种, 其中添加含有Tb的酸性化合物的主激活剂,添加含有Dy的酸性化合物中的共激活剂,使用水热合成法,在温度230度,保持时间2‑5小时;再烘干,制备出纳米50‑300纳米的发光材料;该材料在X射线激发下,发射640nm可见光。
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