[发明专利]一种基于光刻胶的跨尺度的多孔炭材料制备方法有效
| 申请号： | 201310009632.X | 申请日： | 2013-01-10 |
| 公开（公告）号： | CN103072984A | 公开（公告）日： | 2013-05-01 |
| 发明（设计）人： | 孙伟;王俊华 | 申请（专利权）人： | 海博瑞恩电子科技无锡有限公司 |
| 主分类号： | C01B31/08 | 分类号： | C01B31/08;H01G11/86 |
| 代理公司： | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人： | 楼高潮 |
| 地址： | 214100 江苏省无锡市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公布了一种基于光刻胶的跨尺度的多孔炭材料制备方法。以光刻胶作为多孔炭材料的前驱体，引入先进的MEMS加工工艺对前驱体进行微米级三维网状结构加工，然后对微米级三维结构进行碳化形成微米级三维网状炭结构，最后进行活化在微米级三维网状炭结构的所有表面形成可控尺寸的纳米结构。最终形成跨尺度的三维多孔炭材料，可在电化学储能装置中作为电极材料广泛应用，十分有利于电解液的浸润吸收，并且其跨尺度的三维多孔机构为离子的快速迁移提供了有序的、高效的通道，是为高性能电化学储能装置提供理想的高效的电极材料。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 光刻 尺度 多孔 材料 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种基于光刻胶的跨尺度的多孔炭材料制备方法，包括下述步骤：（1）将光刻胶涂覆在基底上；（2）利用掩模版和一个或多个曝光光源使得光刻胶在三维空间上一次或多次选择性曝光；（3）利用显影液使被曝光过的光刻胶显影，形成高度有序相互交错的微米尺度的三维网状结构；（4）具有微米尺度的三维结构的光刻胶高温炭化形成具有微米尺度的三维结构的炭；（5）具有微米尺度的三维结构的炭经过活化处理形成跨尺度的在微米尺度三维网状炭结构的所有表面形成可控尺寸的纳米结构。
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