[发明专利]MEMS反射系统阵列、MEMS反射系统及其制作方法有效
申请号: | 201310009779.9 | 申请日: | 2013-01-10 |
公开(公告)号: | CN103926689B | 公开(公告)日: | 2017-12-01 |
发明(设计)人: | 叶菲;周强 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | G02B26/08 | 分类号: | G02B26/08 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司11227 | 代理人: | 骆苏华 |
地址: | 201203 *** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供了一种MEMS反射系统、该反射系统的制作方法及包括多个反射系统的反射系统阵列。现有的反射系统使用多次后,由于悬梁及阻挡片整个表面都覆盖介电层,在固定电极、反射镜施加电压工作过程中,由于反射镜和阻挡片不断碰撞,导致位于阻挡片上的介电层部分产生陷阱电荷,该陷阱电荷会产生静电吸附现象,进而会导致反射镜吸附在阻挡片上无法弹回。为避免上述问题,本发明提出至少将阻挡片上与反射镜直接接触的部位的表面的介电层去除,使得该部位表面为导电材料,避免了两者之间的静电吸附。 | ||
搜索关键词: | mems 反射 系统 阵列 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
一种MEMS反射系统,包括:形成于半导体衬底的空腔,位于所述空腔内的固定电极与作为可动电极的反射镜;所述固定电极与所述反射镜相对设置,且所述反射镜由悬梁支撑,以使得所述反射镜能够偏转;所述MEMS反射系统还具有用于防止所述反射镜过度偏转的阻挡片;其特征在于,至少与所述反射镜直接接触的所述阻挡片的部位悬空;所述悬梁的两端由位于所述半导体衬底的两个第一支撑柱支撑,中间为悬空结构;所述悬梁的两所述第一支撑柱支撑的支撑点之间具有第二支撑柱,所述第二支撑柱用于支撑所述反射镜;所述阻挡片连接在所述悬梁的两端,且通过所述悬梁与所述反射镜电性连接在一起;所述半导体衬底上还设置有第三支撑柱,所述阻挡片由第一支撑柱与所述第三支撑柱支撑;所述第三支撑柱支撑在所述第一支撑柱与所述阻挡片的自由端之间,所述阻挡片的自由端的表面为导电材料层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司,未经中芯国际集成电路制造(上海)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310009779.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种纳米多层膜及其制备方法
- 下一篇:一种回形针衣帽架