[发明专利]一种采用无氰化学镀金液的双槽连续镀厚金方法有效

专利信息
申请号: 201310012979.X 申请日: 2013-01-14
公开(公告)号: CN103014685A 公开(公告)日: 2013-04-03
发明(设计)人: 杨防祖;杨丽坤;任斌;吴德印;田中群 申请(专利权)人: 厦门大学
主分类号: C23C18/42 分类号: C23C18/42;C23C18/18
代理公司: 厦门南强之路专利事务所 35200 代理人: 马应森
地址: 361005 *** 国省代码: 福建;35
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摘要: 一种采用无氰化学镀金液的双槽连续镀厚金方法,涉及无氰化学镀厚金的方法。1)将基底浸入第1无氰化学镀金液中,进行置换镀金,沉积一层薄金,得到的金膜厚度为0.02~0.08μm;2)将步骤1)得到的产物移入第2无氰化学镀金液中,进行还原型化学镀金,沉积一层厚金,得到的金膜厚度达到0.3~2μm。所得金镀层与基底结合力良好、外观金黄、结晶细小致密。金层纯度100%;当金层进行焊接时,没有产生“黑盘”现象。无氰化学镀金液具有实际应用的镀液稳定性。可克服置换镀金工艺中金层较薄、还原型化学镀金工艺中镀液易受污染、化学镀金液含有氰化物等问题。
搜索关键词: 一种 采用 氰化 镀金 连续 镀厚金 方法
【主权项】:
一种采用无氰化学镀金液的双槽连续镀厚金方法,其特征在于包括以下步骤:1)将基底浸入第1无氰化学镀金液中,进行置换镀金,沉积一层薄金,得到的金膜厚度为0.02~0.08μm;2)将步骤1)得到的产物移入第2无氰化学镀金液中,进行还原型化学镀金,沉积一层厚金,得到的金膜厚度达到0.3~2μm。
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