[发明专利]一种激光微造型掩膜及利用掩膜的激光微造型方法有效
申请号: | 201310013112.6 | 申请日: | 2013-01-14 |
公开(公告)号: | CN103071932A | 公开(公告)日: | 2013-05-01 |
发明(设计)人: | 冯爱新;薛伟;田良;谢华锟;卢轶;顾永玉 | 申请(专利权)人: | 温州大学;江苏大学;成都工具研究所有限公司 |
主分类号: | B23K26/38 | 分类号: | B23K26/38;B23K26/42 |
代理公司: | 北京中北知识产权代理有限公司 11253 | 代理人: | 李雪芳 |
地址: | 325000 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明提供了一种利用掩膜的激光微造型方法,包括以下步骤:(1)在工件表面覆盖激光微造型掩膜;所述激光微造型掩膜由熔覆材料和粘结剂混合制成,所述粘结剂为易蒸发材料,且不与熔覆材料发生反应;所述激光微造型掩膜包括掩膜基底和掩膜微孔,掩膜微孔在掩膜基底上排列成点阵形状;(2)用连续激光对工件表面覆盖激光微造型掩膜的区域进行快速扫描;当激光扫描完激光微造型掩膜覆盖的区域,则同时完成了对材料表面的熔覆与微造型工作。本发明所述激光微造型方法同时实现了激光表面熔覆加工与激光表面微造型加工,缩短了加工时间,节约了能量,提高了生产效率。本发明还同时提供了一种激光微造型掩膜。 | ||
搜索关键词: | 一种 激光 造型 利用 方法 | ||
【主权项】:
一种利用掩膜的激光微造型方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)在工件表面覆盖激光微造型掩膜;所述激光微造型掩膜由熔覆材料和粘结剂混合制成,所述粘结剂为易蒸发材料,且不与熔覆材料发生反应;所述激光微造型掩膜包括掩膜基底和掩膜微孔,掩膜微孔在掩膜基底上排列成点阵形状;(2)用连续激光对工件表面覆盖激光微造型掩膜的区域进行快速扫描;激光使得熔覆材料熔覆在工件表面,并在工件表面烧蚀出微凹坑;当激光扫描完激光微造型掩膜覆盖的区域,则同时完成了对材料表面的熔覆与微造型工作。
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