[发明专利]深度磁场产生装置有效
| 申请号： | 201310013641.6 | 申请日： | 2013-01-15 |
| 公开（公告）号： | CN103654951B | 公开（公告）日： | 2017-03-01 |
| 发明（设计）人： | 戴政祺;黄世杰;林锡璋;陈建璋;尤崇智 | 申请（专利权）人： | 戴政祺;财团法人金属工业研究发展中心 |
| 主分类号： | A61B18/18 | 分类号： | A61B18/18 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司11245 | 代理人： | 赵蓉民 |
| 地址： | 中国台湾台南市东区70*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 一种深度磁场产生装置包括一第一线圈单元以及一第二线圈单元。第二线圈单元与第一线圈单元连接，并水平环绕第一线圈单元。通过上述设计，本发明的深度磁场产生装置可产生一深度磁场，能够达到人体较深层的部位，并应用于烧灼较深层的肿瘤，进而提升治疗效果。 | ||
| 搜索关键词： | 深度 磁场 产生 装置 | ||
【主权项】：
一种深度磁场产生装置，其特征在于，包括：一磁场限制组件，其包括一顶部及一环形部，所述环形部连接于所述顶部的一侧；一第一线圈单元，具有两个线圈，其中一个所述线圈设置在所述环形部内，另一个所述线圈设置在所述环形部外；以及一第二线圈单元，与所述第一线圈单元连接，并水平环绕所述第一线圈单元的所述另一个线圈，其中所述第二线圈单元的一直径为所述第一线圈单元的一直径的1.5倍至5倍之间。
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