[发明专利]一种硼掺杂二氧化钛薄膜的制备方法有效
申请号: | 201310014295.3 | 申请日: | 2013-01-15 |
公开(公告)号: | CN103088286A | 公开(公告)日: | 2013-05-08 |
发明(设计)人: | 王鹤峰;李咏梅;黄晓波;张莹;李秀燕;唐宾 | 申请(专利权)人: | 太原理工大学 |
主分类号: | C23C12/02 | 分类号: | C23C12/02;C23C8/12 |
代理公司: | 北京轻创知识产权代理有限公司 11212 | 代理人: | 杨立 |
地址: | 030024 山西*** | 国省代码: | 山西;14 |
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摘要: | 本发明涉及一种硼掺杂二氧化钛薄膜的制备方法,包括以下步骤:1)在双层辉光离子渗金属炉中,将固态化合物二硼化钛固定在源极上,金属工件放置在阴极上,阳极接在炉壳上并接地;2)将所述双层辉光离子渗金属炉内部抽真空,充入氩气,然后接通阴极电源,在阳极与阴极间施加直流电压,并使金属工件进行第一次升温,升温后进行离子轰击;控制调节通入氩气和氧气的混合气体,然后再调节阴极电压,同时接通源极电源,在源极与阳极间加直流电压,在源极电压为-900~-1100V的条件下,使金属工件进行第二次升温,然后进行等离子渗镀Ti、B并与O2反应,然后再进行保温,保温后再冷却到室温,即可。本发明工艺简单,生产成本低。 | ||
搜索关键词: | 一种 掺杂 氧化 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种硼掺杂二氧化钛薄膜的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:1)在双层辉光离子渗金属炉中,将固态化合物二硼化钛固定在源极上,金属工件放置在阴极上,阳极接在炉壳上并接地;2)然后将所述双层辉光离子渗金属炉内部抽至极限真空,炉内充入氩气,使气压维持在15~18Pa之间,加阴极电压至500V~600V,使金属工件进行第一次升温,升温后对金属工件表面进行离子轰击;控制调节通入流量比为1:1的氩气和氧气的混合气体,使气压维持在35~45Pa之间,然后再调节阴极电压,同时接通源极电源,在源极与阳极间施加直流电压,在源极电压为‑900~‑1100V的条件下,使金属工件进行第二次升温,然后在保温条件下进行等离子渗镀钛硼,保温后再冷却到室温,即得到所述硼掺杂二氧化钛薄膜。
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