[发明专利]微光刻投影光学系统无效
| 申请号： | 201310014400.3 | 申请日： | 2006-09-12 |
| 公开（公告）号： | CN103076723A | 公开（公告）日： | 2013-05-01 |
| 发明（设计）人： | H-J.曼恩;W.乌尔里希;M.普莱托里尔斯 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B17/06;G02B27/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邱军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 总体上，本发明的一方面包括一种微光刻投影光学系统(101)，其包括：多个元件(310-360)，其被设置为将来自物平面(103)的光成像到像平面(102)，至少一个所述元件是反射元件，其具有位于光路上的旋转非对称表面。所述旋转非对称表面从旋转对称表面偏离约10nm以上，并且所述光学系统是微光刻投影光学系统。 | ||
| 搜索关键词： | 微光 投影 光学系统 | ||
【主权项】：
一种微光刻投影光学系统，包括：多个元件，其被设置为将来自物平面的波长为λ的光成像到像平面，至少一个所述元件是反射元件，其具有位于光路上的旋转非对称表面，其中，所述旋转非对称表面从旋转对称参考表面偏离，所述旋转对称参考表面为最近似地拟合旋转非对称表面的旋转对称表面，距离在垂度方向上，其中，所述光学系统在所述像平面上的场具有300mm的最小半径。
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