[发明专利]发光二极管装置及从一发光二极管增加光萃取的方法无效

专利信息
申请号: 201310015591.5 申请日: 2013-01-16
公开(公告)号: CN103258922A 公开(公告)日: 2013-08-21
发明(设计)人: 陈长安 申请(专利权)人: 旭明光电股份有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;H01L33/20;H01L33/02
代理公司: 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 代理人: 孙皓晨
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明公开一种从一发光二极管增加光萃取的方法及发光二极管装置,该方法包括:将一第一n掺杂层沉积在一载具基板上;将一SixNy光罩沉积在该第一n掺杂层上,其中,该SixNy光罩是具有多个开孔,是使该第一n掺杂层部分暴露;将一第二n掺杂层沉积在该SixNy光罩上,以便该第二掺杂层是亦沉积在该多个开孔;将用于发光的一主动层沉积在该第二掺杂层上;以及将一p掺杂层沉积在该主动层上,以便该SixNy光罩是降低在以下至少其一中的缺陷:该第二n掺杂层、该主动层以及该p掺杂层。本发明的制造具有SixNy层的发光二极管结构,负责从发光二极管的一表面提供增加光萃取。当与传统制造没有SixNy层的发光二极管结构时,此制造具有SixNy层的发光二极管结构是可增加发光效率。
搜索关键词: 发光二极管 装置 增加 萃取 方法
【主权项】:
一种从一发光二极管增加光萃取的方法,其特征在于,是包括:将一第一n掺杂层沉积在一载具基板上;将一SiXNy光罩沉积在该第一n掺杂层上,其中,该SiXNy光罩是具有多个开孔,是使该第一n掺杂层部分暴露;将一第二n掺杂层沉积在该SixNy光罩上,以便该第二掺杂层是亦沉积在该多个开孔;将用于发光的一主动层沉积在该第二掺杂层上;以及将一p掺杂层沉积在该主动层上,以便该SixNy光罩是降低在以下至少其一中的缺陷:该第二n掺杂层、该主动层以及该p掺杂层。
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