[发明专利]一种六方氮化硼二维超薄纳米片及其制备方法与应用

摘要

本发明公开了一种六方氮化硼二维超薄纳米片及其制备方法与应用，属于纳米材料技术领域。本发明采用金属硼化物（如硼化钙、硼化镧、硼化镁、硼化钛等）为硼源、铵盐（如氯化铵、溴化铵、硝酸铵等）为氮源在温和的条件下（500～600℃）反应制备得到厚度为0.5～4.0nm的六方氮化硼二维超薄纳米片。本发明的于采用较廉价的原料在温和温度下实现六方氮化硼二维超薄纳米片的宏量制备，节约了能源，简化了实验步骤，大大降低了产品成本。由于六方氮化硼二维超薄纳米片的高的热导率、热稳定性和化学稳定性，可应用于散热材料、聚合物填充材料和催化剂载体等领域。

主权项

一种六方氮化硼二维超薄纳米片的制备方法，其特征在于包括以下步骤：（1）将金属硼化物粉末与铵盐粉末混合，研磨均匀，密封于反应釜中，于400～700℃反应6～48小时；（2）步骤（1）的反应产物经酸洗除去副产物，然后再水洗、醇洗至中性，离心分离后经真空干燥，得到六方氮化硼二维超薄纳米片。