[发明专利]一种等离子处理装置的等离子处理方法

摘要

本发明提供一种等离子处理装置的等离子处理方法，所述等离子处理装置包括一个反应腔，反应腔内包括一个基座，具有不同射频频率输出的多个射频电源施加射频电场到所述反应腔内，所述多个射频电源中至少一个脉冲射频电源输出具有多个状态，所述处理方法包括：匹配频率获取步骤和脉冲处理步骤，在匹配频率获取步骤中切换脉冲射频电源的输出状态使反应腔具有脉冲处理步骤中会出现的多个阻抗。调节可变频射频电源的输出频率使之与出现的阻抗匹配，存储该调节后的多个输出频率为多个匹配频率，在后续的脉冲处理步骤中以存储的多个匹配频率来之间匹配快速切换的阻抗。

主权项

一种等离子处理装置的等离子处理方法，所述等离子处理装置包括一个反应腔，反应腔内包括一个基座，基座上固定待处理基片，还包括具有不同射频频率输出的多个射频电源施加射频电场到所述反应腔内，所述多个射频电源为脉冲射频电源，所述处理方法包括：匹配频率获取阶段和脉冲处理阶段，所述匹配频率获取阶段包括：第一匹配频率获取步骤：调节第一脉冲射频电源的输出为第一输出状态，第二脉冲射频电源输出为第三输出状态，使反应腔内具有第一阻抗，调节第二脉冲射频电源中的变频元件，获得第一匹配频率以匹配所述第一阻抗；第二匹配频率获取步骤：调节所述第一脉冲射频电源的输出为第二输出状态，第二脉冲射频电源输出为第四输出状态使反应腔内具有第二阻抗，调节第二脉冲射频电源中的变频元件，获得第二匹配频率以匹配所述第二阻抗；所述脉冲处理阶段包括：第一处理步骤：设定所述第一脉冲射频电源输出具有第一输出状态，同时设定所述第二脉冲射频电源输出为第三输出状态且具有第一匹配频率；第二处理步骤：设定所述第一脉冲射频电源输出具有第二功率输出状态，同时设定所述第二脉冲射频电源输出为第四输出状态且具有第二匹配频率其特征在于所述匹配频率获取阶段中的第一或第二匹配频率获取步骤的时间小于100ms且大于脉冲处理阶段中的第一或第二处理步骤的时间。