[发明专利]一种具有图形锁定功能的激光干涉光刻系统

摘要

一种具有图形锁定功能的激光干涉光刻系统，包括激光器、反射镜、分束器、基底台、基底和图形锁定装置；激光器出射的激光经分光镜分为曝光光束和参考光束，曝光光束经分束器后利用反射镜折光在基底台承载的基底上实现干涉，干涉图形通过曝光基底实现图形记录转移；为防止曝光期间图形漂移，光刻系统利用图形锁定装置进行图形锁定。图形锁定装置包括零差相位计、电子信号处理部件、控制器、驱动器、相位调制执行器，零差相位计测量图形相位漂移，经电子信号处理部件反馈至控制器，控制器经驱动器控制相位调制执行器实现相位锁定。该激光干涉光刻系统具有结构简洁、图形锁定精度高等优点，是实现大面积高精度光栅制造的关键系统。

主权项

一种具有图形锁定功能的激光干涉光刻系统，包括激光器（1）、分光镜、反射镜、分束器（2）、基底台（3）和基底（4）；激光器（1）出射的激光经分光镜后分为曝光光束和参考光束，曝光光束经分束器（2）后分为两束干涉曝光光束，两束干涉曝光光束经反射镜反射后在基底台（3）承载的基底（4）上实现合光干涉，干涉图形通过曝光基底实现图形记录转移；其特征在于：所述系统还包括一个图形锁定系统，该图形锁定系统包括第一光束采样器（5a）、第二光束采样器（5b）、第一零差相位计（6a）、第二零差相位计（6b）、电子信号处理部件（7）、控制器（8）、驱动器（9）和相位调制执行器（10），第一零差相位计（6a）与第二零差相位计（6b）具有相同的光学结构；所述的第一光束采样器（5a）和第二光束采样器（5b）位于靠近基底处的两束曝光干涉光路上，第一光束采样器（5a）和第二光束采样器（5b）各采取两束干涉光路上的一部分光形成第一测量光和第二测量光，参考光束经折反光路传播或光纤传播后分光形成第一参考光和第二参考光，第一测量光和第一参考光分别从两个入口入射至第一零差相位计（6a），第二测量光和第二参考光分别从两个入口入射至第二零差相位计（6b），入射的光信号分别经两个零差相位计处理后，输出包含干涉条纹相位信息的电信号，电信号经电子信号处理部件（7）后输入至控制器（8），控制器（8）输出控制信号至驱动器（9），驱动器（9）驱动相位调制执行器（10）；当干涉光刻系统的图形发生漂移时，利用该图形锁定系统控制图形漂移实现图形锁定。