[发明专利]一种吡咯并吡咯二酮衍生物及其制备方法和应用无效

专利信息
申请号: 201310018282.3 申请日: 2013-01-17
公开(公告)号: CN103087083A 公开(公告)日: 2013-05-08
发明(设计)人: 方俊锋;叶丹丹;张文俊;胡钊;闵超 申请(专利权)人: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
主分类号: C07D519/00 分类号: C07D519/00;C07F7/08;H01L51/46
代理公司: 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 代理人: 刘诚午
地址: 315201 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种吡咯并吡咯二酮衍生物,其结构如式(I)所示;式(I)中,n=2或4;R选自如式(I-a)、式(I-b)或式(I-c)所示的基团。该吡咯并吡咯二酮衍生物对可见光的吸收能力强,可以作为一种小分子给体材料应用于有机太阳能领域。本发明还公开了吡咯并吡咯二酮衍生物的制备方法,以2-氰基噻吩和丁二酸二甲酯为起始原料,经过一系列关环、溴代和偶联反应得到所述的吡咯并吡咯二酮衍生物。
搜索关键词: 一种 吡咯 衍生物 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
1.一种吡咯并吡咯二酮衍生物,其特征在于,结构如式(I)所示:式(I)中,n=2或4;R选自如式(I-a)、式(I-b)或式(I-c)所示的基团:式(I-a)、式(I-b)和式(I-c)中,“*”表示连接位置。
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