[发明专利]一种X射线反射镜表面镀膜的方法

摘要

一种X射线反射镜表面镀膜的方法，它涉及X射线反射镜表面镀膜的方法，本发明要解决现有X射线反射镜表面镀膜的方法中存在膜层间界面粗糙度大的问题以及膜层间存在混合与扩散的问题。本发明中一种X射线反射镜表面镀膜的方法按以下步骤进行：一、玻璃基底的清洗；二、玻璃基底的加热及保温，对基底表面进行反溅清洗；三、向基底表面镀钛膜；四、对钛膜表面进行反溅溅射；五、向钛膜表面镀碳膜；六、对碳膜表面进行反溅溅射；七、关闭电源，降温至室温，完成X射线表面膜层的制备。本发明方法适用于薄膜工程领域。

主权项

一种X射线反射镜表面镀膜的方法，其特征在于它是通过以下步骤实现的：一、将玻璃基底用丙酮超声波清洗15min~30min，再用无水乙醇清洗15min~30min，最后用去离子水清洗15min~30min后烘干；二、将玻璃基底置于磁控溅射真空仓内的旋转加热台上，使基底中心正对钛靶的中心，通过真空获得系统将真空仓内抽成真空，当真空仓内真空度达到1.0×10‑4Pa~9.9×10‑4Pa时，启动加热装置，加热至25℃~650℃，并且保温10min~120min；通入Ar气，当真空仓内压强为3Pa~5Pa时，向旋转加热台施加200V~800V的负电压，对玻璃基底进行反溅清洗10min~20min；三、反溅清洗完毕后，向钛靶施加直流电源启辉，溅射功率为60W~200W，控制Ar气流量为60sccm~150sccm，使真空仓内气体压强为0.1Pa~2Pa，预溅射3min~5min后，移开挡板，开始向衬底表面镀钛膜10min~90min；四、沉积完钛薄膜后，关闭直流溅射电源，向旋转加热台施加200V~800V的负电压，向钛膜表面进行反溅溅射10min~20min；五、移动靶源，使碳靶的中心位置正对着玻璃基底的中心，向碳靶施加射频电源启辉，射频功率为60W~200W，控制Ar气流量为30sccm~70sccm，使真空仓内气体压强为0.1Pa~2Pa，预溅射3min~5min后，移开挡板，开始向钛膜表面镀碳膜60min~180min；六、沉积完碳薄膜后，关闭射频电源，向旋转加热台施加200V~800V的负电压，向碳膜表面进行反溅溅射10min~20min；七、反溅完成之后，用挡板遮住基底，关闭所有电源，待真空仓内温度降至20℃~25℃时即制得X射线反射镜表面膜层。