[发明专利]用于使用频域干涉测量法进行光学成像的方法和设备无效
| 申请号： | 201310023430.0 | 申请日： | 2004-09-08 |
| 公开（公告）号： | CN103181754A | 公开（公告）日： | 2013-07-03 |
| 发明（设计）人： | 尹锡贤;布雷特·尤金·鲍马;吉列尔莫·J·蒂尔尼;约翰内斯·菲茨杰拉德·德·布尔 | 申请（专利权）人： | 通用医疗公司 |
| 主分类号： | A61B5/00 | 分类号： | A61B5/00;G02B27/48 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 朱胜;郑宗玉 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 提供了一种用于使用频域干涉测量法进行光学成像的方法和设备。具体而言，至少一个第一电磁辐射可以提供给样品并且至少一个第二电磁辐射可以提供给非反射的参考。所述第一和/或第二辐射的频率随时间变化。在关联于所述第一辐射的至少一个第三辐射与关联于所述第二辐射的至少一个第四辐射之间检测干涉。可替换地，所述第一电磁辐射和/或第二电磁辐射具有随时间变化的谱。所述谱在特定时间可以包含多个频率。另外，有可能以第一偏振态检测所述第三辐射与所述第四辐射之间的干涉信号。此外，可以优选地以不同于所述第一偏振态的第二偏振态检测所述第三和第四辐射之间的又一干涉信号。所述第一和/或第二电磁辐射可以具有中值频率以大于每毫秒100万亿赫兹的调谐速度随时间基本上连续变化的谱。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 使用 干涉 测量 进行 光学 成像 方法 设备 | ||
【主权项】：
一种设备，包括：至少一个第一装置，其将至少一个第一电磁辐射提供给样品并且将至少一个第二电磁辐射提供给参考，其中所述第一和第二电磁辐射的至少一个具有随时间变化的谱，所述谱包含多个不同的纵模；以及至少一个第二装置，其检测关联于所述至少一个第一辐射的至少一个第三辐射与关联于所述至少一个第二辐射的至少一个第四辐射之间的干涉。
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