[发明专利]用于超声焦斑成形的方法有效
| 申请号： | 201310025403.7 | 申请日： | 2013-01-23 |
| 公开（公告）号： | CN103211618A | 公开（公告）日： | 2013-07-24 |
| 发明（设计）人： | R.萨洛米;M.维亚隆 | 申请（专利权）人： | 西门子公司 |
| 主分类号： | A61B8/00 | 分类号： | A61B8/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 谢强 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 通过选择性地只激活聚焦超声系统的超声换能器的特定区域，相对于诸如磁共振系统参照系的参照系来校准聚焦超声系统的焦点，从而改变焦点的形状。在校准过程的相继步骤中，使焦点形状在形状及位置方面选择性地改变，同时移动焦点通过参照系的相继定位器。将完成校准过程时操作超声系统所用的参数存储，作为相对于参照系精确定位超声系统焦点的参数。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 超声 成形 方法 | ||
【主权项】：
一种用于相对于参照系校准聚焦超声系统的方法，包括：（a）将对象放置在由多个定位器限定的所述参照系中；（b）采用所述聚焦超声系统，以在所述定位器的第一个中所产生的限定焦点的具有纵轴的狭窄、细长的超声波束，来声波处理所述对象；（c）在所述定位器的第一个中移动所述焦点，直至使所述焦点位于所述定位器的第一个与所述定位器的第二个相交的轴；（d）沿所述纵轴移动所述焦点，直至所述焦点处于所述定位器的第三个中；以及（e）将来自步骤（d）结束时的所述超声波系统的操作参数设置为相对于所述参照系校准所述聚焦超声系统的参数。
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