[发明专利]具有图像的透明构件及在透明构件上形成图像的方法无效
申请号: | 201310026057.4 | 申请日: | 2013-01-23 |
公开(公告)号: | CN103852971A | 公开(公告)日: | 2014-06-11 |
发明(设计)人: | 崔春镐;李枝荣 | 申请(专利权)人: | 劳恩创新科技有限公司 |
主分类号: | G03F7/00 | 分类号: | G03F7/00;G03F7/16;G06F3/041 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 余刚;李静 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 提供了一种在透明构件上形成图像的方法以及具有图像的透明构件,该方法包括:a)在透明构件的表面上形成涂层;b)在涂层上附接干膜光致抗蚀剂;c)使用具有图像图案的光掩膜覆盖干膜光致抗蚀剂并且使用UV照射光掩膜,从而对干膜光致抗蚀剂曝光;d)执行显影工序;e)执行蚀刻工序;以及f)执行剥离工序,以便移除干膜光致抗蚀剂的图像区域。根据本发明,使用IT装置时,防止损坏包括IT装置的触摸屏的显示部内所包含的图像。此外,关闭IT装置时,在显示器上看见图像。另一方面,打开IT装置时,看不见图像,而是仅看见信息屏。 | ||
搜索关键词: | 具有 图像 透明 构件 形成 方法 | ||
【主权项】:
一种在透明构件上形成图像的方法,所述方法包括:a)在所述透明构件的表面上形成涂层;b)在所述涂层上附接干膜光致抗蚀剂;c)通过使用具有图像图案的光掩膜覆盖所述干膜光致抗蚀剂并且使用UV照射所述光掩膜,而对所述干膜光致抗蚀剂曝光;d)执行显影工序,以便移除所述干膜光致抗蚀剂的除使用UV穿过所述光掩膜的所述图像图案照射的所述干膜光致抗蚀剂的图像区域以外的其他区域;e)执行蚀刻工序,以便移除所述涂层的除面向所述干膜光致抗蚀剂的所述图像区域的图像区域以外的其他区域;以及f)执行剥离工序,以便移除所述干膜光致抗蚀剂的所述图像区域。
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