[发明专利]半导体器件无效
申请号: | 201310027193.5 | 申请日: | 2013-01-24 |
公开(公告)号: | CN103681821A | 公开(公告)日: | 2014-03-26 |
发明(设计)人: | 内城竜生 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝 |
主分类号: | H01L29/739 | 分类号: | H01L29/739;H01L29/06;H01L29/78 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 张丽 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种能够提高元件的耐性的半导体器件。实施方式的半导体器件具备:第1半导体层;第2半导体层;第3半导体层,具有第1半导体区域和第2半导体区域沿着相对第1半导体层与第2半导体层的层叠方向垂直的第1方向交替排列的构造;第4半导体层,具有第3半导体区域和第4半导体区域沿着第1方向交替排列的构造;以及第5半导体层,设置于所述第3半导体区域上以及所述第4半导体区域上。第2半导体区域中包含的杂质元素的浓度高于第1半导体区域中包含的杂质元素的浓度。第3半导体区域中包含的杂质元素的浓度高于第4半导体区域中包含的杂质元素的浓度。第3半导体层和第4半导体层的界面与第5半导体层的下端之间的第1长度比界面与第2半导体层的上端之间的第2长度长。 | ||
搜索关键词: | 半导体器件 | ||
【主权项】:
一种半导体器件,其特征在于,具备:第1导电类型的第1半导体层;第2导电类型的第2半导体层,设置于所述第1半导体层之上;第3半导体层,设置于所述第2半导体层之上,并且具有第1导电类型的第1半导体区域和第2导电类型的第2半导体区域沿着相对所述第1半导体层与所述第2半导体层的层叠方向垂直的第1方向交替排列的构造;第4半导体层,设置于所述第3半导体层之上,并且具有第1导电类型的第3半导体区域和第2导电类型的第4半导体区域沿着所述第1方向交替排列的构造;第1导电类型的第5半导体层,设置于所述第4半导体层之上;第2导电类型的第6半导体层,设置于所述第5半导体层之上;第1电极,隔着绝缘膜而与所述第6半导体层、所述第5半导体层以及所述第4半导体区域相接;第2电极,与所述第6半导体层连接;以及第3电极,与所述第1半导体层连接,所述第1半导体区域与所述第3半导体区域连接,所述第2半导体区域与所述第4半导体区域连接,所述第2半导体区域中包含的杂质元素的浓度高于所述第1半导体区域中包含的杂质元素的浓度,所述第3半导体区域中包含的杂质元素的浓度高于所述第4半导体区域中包含的杂质元素的浓度,所述第2半导体层的上端与所述第3半导体层和所述第4半导体层的界面之间的第1长度比所述界面与所述第5半导体层的下端之间的第2长度短。
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