[发明专利]反应腔室及具有它的等离子体设备在审
| 申请号： | 201310029533.8 | 申请日： | 2013-01-25 |
| 公开（公告）号： | CN103972012A | 公开（公告）日： | 2014-08-06 |
| 发明（设计）人： | 杨玉杰;吕铀 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 宋合成;黄德海 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种反应腔室及具有它的等离子体设备，反应腔室包括：腔体，腔体内具有反应腔；诱导环形件，诱导环形件设在反应腔内，用于减弱反应腔中心处的磁场强度且增强反应腔外周缘处的磁场强度。根据本发明的反应腔室，反应腔室内具有诱导环形件，诱导环形件可以通过改变反应腔内的磁场强度而降低反应腔中心处等离子体密度，增加反应腔边缘的等离子体密度，从而降低反应腔边缘与中心区域等离子体密度差异，改善等离子体分布的均匀性，有利于晶圆或工件产品的开发。 | ||
| 搜索关键词： | 反应 具有 等离子体 设备 | ||
【主权项】：
一种反应腔室，其特征在于，包括：腔体，所述腔体内具有反应腔；诱导环形件，所述诱导环形件设在反应腔内，用于减弱所述反应腔中心处的磁场强度且增强所述反应腔外周缘处的磁场强度。
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