[发明专利]一种超薄Ta-W合金箔材的制备方法

摘要

本发明提供了一种超薄Ta-W合金箔材的制备方法；属于Ta-W合金加工技术领域。本发明包括粉末冶金法制备合金坯锭、冷轧开坯、冷轧/真空退火的循环操作以及3~5μm箔材的退火等步骤；所制备的箔材厚度可达到3~5μm，本发明工艺简单，制备的箔材精度高，与纯Ta箔材以及其他Ta-W合金箔材相比具有强度高、表面质量好等优点。本发明所制备厚度为3~5μm的Ta-（5.0~7.5wt%）W合金箔材适用于电子电工、航空航天等工业上大功率微波管和行波管等真空器件。本发明在实现大功率高性能微波管国产化、提高微波管使用性能和使用寿命等方面具有重要意义。

主权项

一种超薄Ta‑W合金箔材的制备方法，其特征在于包括下述步骤：步骤一：Ta‑W合金锭的开坯加工将致密度为95~98%的Ta‑W合金锭切割成坯条后除去表面杂质和油污，然后将坯条进行真空退火，退火后冷轧，得到合金板坯；所述退火的条件为：绝对真空度＜3×10‑3Pa、退火温度1200~1400℃、退火时间40~80min、冷却方式为随炉冷却至室温；所述冷轧包括横向轧制和纵向轧制，先进行总变形量为80~85%的横向冷轧，再进行总变形量为10~30%的纵向冷轧，每道次冷轧的变形量为8~10%；所述Ta‑W合金中W的质量百分含量为5.0~7.5%；步骤二：合金板坯的粗加工将步骤一获得的合金板坯清洗干净后放入钼盒中，真空退火后进行总变形量为40~60%的多道次冷轧，冷轧后真空退火，得到合金板粗坯；所述真空退火的条件为：绝对真空度＜3×10‑3Pa、退火温度1200~1400℃、退火时间40~60min、冷却方式为随炉冷却至室温；每道次冷轧的变形量为8~10%；步骤三：合金板坯的精加工将步骤二获得的合金板粗坯进行多道次冷轧，直至得到0.1~0.15mm厚的第一合金箔材，当冷轧累积变形量达到50~70%时，进行一次真空退火，所述真空退火的条件为：真空炉为真空钼片炉、 绝对真空度＜3×10‑3Pa、退火温度1200~1400℃、退火时间40~60min、冷却方式为随炉冷却至室温；每道次冷轧的变形量为8~10%；步骤四：合金箔材的精加工将步骤三制备的第一合金箔材真空退火后进行多道次冷轧，直至得到0.02~0.025mm厚的第二合金箔材，当冷轧累积变形量达到40~50%时，进行一次真空退火，所述冷轧是在20辊轧机上带张力轧制，每道次冷轧的变形量为5~8%；所述真空退火的条件为：真空炉为真空钼片炉、绝对真空度＜3×10‑4Pa、退火温度为1200~1400℃、退火时间为40~60min、冷却方式为随炉冷却至室温；步骤五：厚度为3~5μm的合金箔的制备将步骤四制备的第二合金箔材真空退火后进行多道次冷轧，直至得到厚度为3~5μm的合金箔材，将3~5μm的厚合金箔材真空退火得到成品；当冷轧累积变形量达到40~50%时，进行一次真空退火；所述冷轧是在30辊轧机上带张力轧制，每道次冷轧的变形量为5~8%，；所述真空退火的条件为：绝对真空度＜3×10‑4Pa、退火温度为1200~1400℃、退火时间为40~60min、冷却方式为随炉冷却至室温。