[发明专利]基于受激辐射的Mirau荧光干涉显微测量装置有效

专利信息
申请号: 201310033336.3 申请日: 2013-01-29
公开(公告)号: CN103115583A 公开(公告)日: 2013-05-22
发明(设计)人: 刘俭;谭久彬;王伟波;张拓 申请(专利权)人: 哈尔滨工业大学
主分类号: G01B11/24 分类号: G01B11/24
代理公司: 哈尔滨市伟晨专利代理事务所(普通合伙) 23209 代理人: 张伟
地址: 150001 黑龙*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要: 基于受激辐射的Mirau荧光干涉显微测量装置属于表面形貌测量技术领域;该测量装置包括激光器、沿光线传播方向配置在激光器直射光路上的会聚物镜、第一针孔、准直扩束物镜和分光镜;配置在分光镜反射光路上的聚焦物镜、位移驱动器、参考镜、分光棱镜和被测件;配置在分光镜透射光路上的成像会聚物镜、窄带滤光片、第二针孔和探测器;所述的被测件和参考镜表面采用真空蒸发镀膜法进行镀膜;这种通过镀膜改变被测面的表面特性的设计,保证测量光经被测面反射后能够返回探测系统,解决了高NA和高斜率表面检测的难题,适用于高NA和高斜率球面、非球面和自由曲面三维形貌的超精密测量。
搜索关键词: 基于 辐射 mirau 荧光 干涉 显微 测量 装置
【主权项】:
基于受激辐射的Mirau荧光干涉显微测量装置,其特征在于包括激光器(1)、沿光线传播方向配置在激光器(1)直射光路上的会聚物镜(2)、第一针孔(3)、准直扩束物镜(4)和分光镜(5);配置在分光镜(5)反射光路上的聚焦物镜(6)、位移驱动器(7)、参考镜(8)、分光棱镜(9)和被测件(10);配置在分光镜(5)透射光路上的成像会聚物镜(11)、窄带滤光片(12)、第二针孔(13)和探测器(14);所述的被测件(10)和参考镜(8)表面采用真空蒸发镀膜法进行镀膜。
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