[发明专利]铜锌锡硫硒薄膜制备中的掺杂工艺在审

专利信息
申请号: 201310033586.7 申请日: 2013-01-29
公开(公告)号: CN103094422A 公开(公告)日: 2013-05-08
发明(设计)人: 向勇;张晓琨;张庶 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 610017 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明提供了一种铜锌锡硫硒薄膜制备中的掺杂工艺,属于太阳能电池技术领域,该工艺可有效地掺杂第五主族元素,且掺杂梯度可控、掺杂比例可调、掺杂效应显著。其步骤包括:步骤一:通过应用薄膜沉积工艺,制备铜锌锡硫硒薄膜;步骤二:根据制备铜锌锡硫硒薄膜时选择的工艺和需掺杂元素的特点,通过掺杂工艺实现这一元素在铜锌锡硫硒薄膜中的掺杂;步骤三:对所得薄膜施以热处理工艺,最终完成第五主族元素在铜锌锡硫硒薄膜中掺杂效应的激活。本发明实现了对铜锌锡硫硒薄膜结晶性能、光电特性、电学特性的改进优化,在低成本高效薄膜太阳能电池的制备中具有广泛的运用前景。
搜索关键词: 铜锌锡硫硒 薄膜 制备 中的 掺杂 工艺
【主权项】:
一种铜锌锡硫硒薄膜制备中的掺杂工艺,其特征在于:包括以下步骤:步骤一:通过应用薄膜沉积工艺,制备铜锌锡硫硒薄膜;所述铜锌锡硫硒薄膜制备工艺包括元素蒸镀工艺、化合物蒸镀工艺、元素反应溅射硫化工艺、化合物溅射硫化工艺、纳米颗粒工艺、电镀工艺;步骤二:根据制备铜锌锡硫硒薄膜时选择的工艺和需掺杂元素的特点,通过掺杂工艺实现这一元素在铜锌锡硫硒薄膜中的掺杂;所述的掺杂工艺包括化学水浴沉积工艺、电镀沉积薄膜工艺、离子注入工艺、反应物及原料掺杂工艺;步骤三:对所得薄膜施以热处理工艺,最终完成第五主族元素在铜锌锡硫硒薄膜中掺杂效应的激活。
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