[发明专利]铜锌锡硫硒薄膜制备中的掺杂工艺在审
申请号: | 201310033586.7 | 申请日: | 2013-01-29 |
公开(公告)号: | CN103094422A | 公开(公告)日: | 2013-05-08 |
发明(设计)人: | 向勇;张晓琨;张庶 | 申请(专利权)人: | 电子科技大学 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 610017 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明提供了一种铜锌锡硫硒薄膜制备中的掺杂工艺,属于太阳能电池技术领域,该工艺可有效地掺杂第五主族元素,且掺杂梯度可控、掺杂比例可调、掺杂效应显著。其步骤包括:步骤一:通过应用薄膜沉积工艺,制备铜锌锡硫硒薄膜;步骤二:根据制备铜锌锡硫硒薄膜时选择的工艺和需掺杂元素的特点,通过掺杂工艺实现这一元素在铜锌锡硫硒薄膜中的掺杂;步骤三:对所得薄膜施以热处理工艺,最终完成第五主族元素在铜锌锡硫硒薄膜中掺杂效应的激活。本发明实现了对铜锌锡硫硒薄膜结晶性能、光电特性、电学特性的改进优化,在低成本高效薄膜太阳能电池的制备中具有广泛的运用前景。 | ||
搜索关键词: | 铜锌锡硫硒 薄膜 制备 中的 掺杂 工艺 | ||
【主权项】:
一种铜锌锡硫硒薄膜制备中的掺杂工艺,其特征在于:包括以下步骤:步骤一:通过应用薄膜沉积工艺,制备铜锌锡硫硒薄膜;所述铜锌锡硫硒薄膜制备工艺包括元素蒸镀工艺、化合物蒸镀工艺、元素反应溅射硫化工艺、化合物溅射硫化工艺、纳米颗粒工艺、电镀工艺;步骤二:根据制备铜锌锡硫硒薄膜时选择的工艺和需掺杂元素的特点,通过掺杂工艺实现这一元素在铜锌锡硫硒薄膜中的掺杂;所述的掺杂工艺包括化学水浴沉积工艺、电镀沉积薄膜工艺、离子注入工艺、反应物及原料掺杂工艺;步骤三:对所得薄膜施以热处理工艺,最终完成第五主族元素在铜锌锡硫硒薄膜中掺杂效应的激活。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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