[发明专利]无标记深浮雕微透镜阵列与探测器的对准方法有效

专利信息
申请号: 201310033860.0 申请日: 2013-01-29
公开(公告)号: CN103149608A 公开(公告)日: 2013-06-12
发明(设计)人: 罗先刚;王彦钦;王长涛;张鸶懿 申请(专利权)人: 中国科学院光电技术研究所
主分类号: G02B3/02 分类号: G02B3/02;G03F9/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 梁爱荣
地址: 610209 *** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明是一种无标记深浮雕微透镜阵列与探测器的对准方法,所述对准方法是通过光刻工艺在每个微透镜单元的口径顶点处做出一个直径为几微米的圆形平面区域。利用显微镜下处于阵列中心的横纵两排顶点圆心的连线,可以确定微透镜阵列的XY轴。将CCD图像传感器软件界面上位置保持不变的十字分划线作为对准的基准,调节对准所用的自制装置,分别使探测器和微透镜阵列的XY轴与作为基准的十字分划线对齐,实现了微透镜阵列与探测器的对准。该方法将深浮雕微透镜阵列中单元口径顶点作为实际对准标识,解决了标记对准法中由于刻蚀边缘陡直度差、标记漂移等原因导致对准精度低的问题。
搜索关键词: 标记 浮雕 透镜 阵列 探测器 对准 方法
【主权项】:
一种无标记深浮雕微透镜阵列与探测器的对准方法,所述对准的步骤如下:步骤S1:将深浮雕微透镜阵列的每个微透镜单元的能量汇聚在与之对准的每个探测源上;步骤S2:通过光刻工艺在深浮雕微透镜阵列的每个微透镜单元的口径顶点处做出一个直径为微米级的圆形平面区域;在显微镜下能看到由微米级的圆形平面区域形成的圆形光斑图像,用多个圆形光斑的圆心的连线作为对准标识;步骤S3:将探测器吸附在对准装置的下吸附平台的上表面,通过长工作距显微镜找到探测器上的坐标系;步骤S4:调节下吸附平台,使探测器的坐标系与作为基准的十字分划线重合,并锁紧下吸附平台;步骤S5:确定深浮雕微透镜阵列中心和坐标轴,将深浮雕微透镜阵列吸附在对准装置的上吸附平板的下表面,长工作距显微镜找到处在深浮雕微透镜阵列中心的横纵两排口径顶点的圆形光斑,以这两排圆形光斑作为深浮雕微透镜阵列中心和XY坐标轴;步骤S6:调节上吸附平板,CCD图像传感器采集连续图像后传送给计算机;计算机控制上吸附平板和下吸附平台的移动与定位;通过计算CCD图像传感器软件界面的像素点找到微透镜单元的口径顶点的圆心,使探测器和深浮雕微透镜阵列的XY轴,所述横纵两排微透镜单元的口径顶点的圆心与作为基准的十字分划线对齐,锁紧上吸附平板和下吸附平台,实现深浮雕微透镜阵列与探测器的对准。
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