[发明专利]用于PECVD薄膜沉积的气体反应装置和方法

摘要

一种用于PECVD薄膜沉积的气体反应装置，包括：进气管、气体混合器、两个以上的出气管及流量控制器；所述气体混合器的一端与所述进气管连接，所述气体混合器的另一端与所述出气管连接，所述气体混合器与所述进气管、所述出气管之间气体流通；所述流量控制器用于控制所述出气管内的气体流量；所述出气管还用于与喷淋头连接，所述出气管用于将所述气体混合器内混合后的反应气体通过所述喷淋头喷洒到晶圆表面。从而能够对PECVD薄膜各个区域所需的反应气体量进行控制，进而能够调节PECVD薄膜局部沉积速率以提升PECVD薄膜的均匀性。此外，还提供一种调节简单、效率高的用于PECVD薄膜沉积的气体反应方法。

主权项

一种用于PECVD薄膜沉积的气体反应装置，其特征在于，包括：进气管、气体混合器、两个以上的出气管及流量控制器；所述气体混合器的一端与所述进气管连接，所述气体混合器的另一端与所述出气管连接，所述气体混合器与所述进气管、所述出气管之间气体流通；所述流量控制器用于控制所述出气管内的气体流量；所述出气管还用于与喷淋头连接，所述出气管用于将所述气体混合器内混合后的反应气体通过所述喷淋头喷洒到晶圆表面。