[发明专利]磁控溅射阴极靶材的密封结构有效

专利信息
申请号: 201310035566.3 申请日: 2013-01-30
公开(公告)号: CN103060766A 公开(公告)日: 2013-04-24
发明(设计)人: 陈诚;邵帅;刘西宁 申请(专利权)人: 安徽省蚌埠华益导电膜玻璃有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35
代理公司: 蚌埠鼎力专利商标事务所有限公司 34102 代理人: 王琪
地址: 233010 安徽省蚌*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明涉及磁控溅射阴极靶材的密封结构。包括靶材和阴极座,所述的靶材固定在靶背板上,所述的靶背板与阴极座之间设有导磁不锈钢密封板,所述的导磁不锈钢密封板与阴极座之间设有密封两者的第一密封圈,所述的导磁不锈钢密封板及靶背板分别与阴极座固定连接。由上述技术方案可知,本发明通过在阴极座与靶背板之间增设一个导磁不锈钢密封板,且该导磁不锈钢密封板与阴极座相密封固定,这样在日常对靶背板进行检查、维修等操作时,直接将靶背板与阴极座相拆卸即可,整个拆卸过程不会影响到阴极座与导磁不锈钢密封板之间的密封圈,避免了对密封圈的损害,提高了密封圈的使用寿命,减少了日常的使用成本。
搜索关键词: 磁控溅射 阴极 密封 结构
【主权项】:
一种磁控溅射阴极靶材的密封结构,包括靶材(1)和阴极座(2),所述的靶材(1)固定在靶背板(3)上,其特征在于:所述的靶背板(3)与阴极座(2)之间设有导磁不锈钢密封板(4),所述的导磁不锈钢密封板(4)与阴极座(2)之间设有密封两者的第一密封圈(5),所述的导磁不锈钢密封板(4)及靶背板(3)分别与阴极座(2)固定连接。
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