[发明专利]一种硅面SiC衬底上的石墨烯光电器件及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201310037225.X 申请日: 2013-01-31
公开(公告)号: CN103117317A 公开(公告)日: 2013-05-22
发明(设计)人: 陈远富;郝昕;王泽高;李萍剑;刘竞博;张万里;李言荣 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: H01L31/0352 分类号: H01L31/0352;H01L31/08;H01L31/18
代理公司: 成都宏顺专利代理事务所(普通合伙) 51227 代理人: 李顺德;王睿
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 一种硅面SiC衬底上的石墨烯光电器件及其制备方法,属于光电器件技术领域。包括Si面碳化硅衬底(1)、R30°界面碳缓冲层(2)、石墨烯层(3);其中R30°界面碳缓冲层(2)位于Si面碳化硅衬底(1)和石墨烯层(3)之间;所述石墨烯层(3)上表面具有金属叉指对电极(4)。制备工程包括硅面SiC衬底表面处理和SiC热裂解生长R30°界面碳缓冲层(2)和石墨烯层(3)主要步骤。本发明提供的硅面SiC衬底上的石墨烯光电器件具有石墨烯/R30°界面碳缓冲层/Si面碳化硅衬底的结构,制备工艺简单、无需掺杂工艺,制备过程中能够避免光刻胶对石墨烯的污染,制备出的石墨烯光电器件光照下的电阻变化率比传统结构高2~3个数量级。
搜索关键词: 一种 sic 衬底 石墨 光电 器件 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种硅面SiC衬底上的石墨烯光电器件,包括Si面碳化硅衬底(1)、R30°界面碳缓冲层(2)、石墨烯层(3);其中R30°界面碳缓冲层(2)位于Si面碳化硅衬底(1)和石墨烯层(3)之间;所述石墨烯层(3)上表面具有金属叉指对电极(4)。
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