[发明专利]一种硅面SiC衬底上的石墨烯光电器件及其制备方法有效
申请号: | 201310037225.X | 申请日: | 2013-01-31 |
公开(公告)号: | CN103117317A | 公开(公告)日: | 2013-05-22 |
发明(设计)人: | 陈远富;郝昕;王泽高;李萍剑;刘竞博;张万里;李言荣 | 申请(专利权)人: | 电子科技大学 |
主分类号: | H01L31/0352 | 分类号: | H01L31/0352;H01L31/08;H01L31/18 |
代理公司: | 成都宏顺专利代理事务所(普通合伙) 51227 | 代理人: | 李顺德;王睿 |
地址: | 611731 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 一种硅面SiC衬底上的石墨烯光电器件及其制备方法,属于光电器件技术领域。包括Si面碳化硅衬底(1)、R30°界面碳缓冲层(2)、石墨烯层(3);其中R30°界面碳缓冲层(2)位于Si面碳化硅衬底(1)和石墨烯层(3)之间;所述石墨烯层(3)上表面具有金属叉指对电极(4)。制备工程包括硅面SiC衬底表面处理和SiC热裂解生长R30°界面碳缓冲层(2)和石墨烯层(3)主要步骤。本发明提供的硅面SiC衬底上的石墨烯光电器件具有石墨烯/R30°界面碳缓冲层/Si面碳化硅衬底的结构,制备工艺简单、无需掺杂工艺,制备过程中能够避免光刻胶对石墨烯的污染,制备出的石墨烯光电器件光照下的电阻变化率比传统结构高2~3个数量级。 | ||
搜索关键词: | 一种 sic 衬底 石墨 光电 器件 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种硅面SiC衬底上的石墨烯光电器件,包括Si面碳化硅衬底(1)、R30°界面碳缓冲层(2)、石墨烯层(3);其中R30°界面碳缓冲层(2)位于Si面碳化硅衬底(1)和石墨烯层(3)之间;所述石墨烯层(3)上表面具有金属叉指对电极(4)。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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