[发明专利]1-R1-3-R2-4-氟哌啶及其衍生物的制备方法

摘要

本发明涉及一种式（I）所示一种1-R₁-3-R₂-4-氟哌啶及其衍生物的制备方法，其中R₁是氢、C1-C9烷基、芳基、苄基、CF₃CO、R₄CO或R₅OCO；R₂是含C1-C9烷基，CH₂NHR₆，CH₂X，CO₂H，CO₂R₇，R₄C(O)O；X=OH,CH₂OAC,CH₂N₃；R₃是氢、C1_-C9烷基、芳基或苄基；R₄是C1-C9烷基、芳基或苄基；R₅是C1-C9烷基、芳基或苄基；R₆是氢、C1-C9烷基、芳基、苄基、CF₃CO、R₄CO或R₅OCO；R₇是C1-C9烷基、芳基或苄基；上述各基团任选不被取代或被一个或多个选自由烷基、卤烷基、羟烷基、卤素、烷氧基或羟基组成的取代基取代；该方法包括以下反应式所示的步骤：

主权项

一种式（I）所示1‑R₁‑3‑R₂‑4‑氟哌啶衍生物的制备方法，其中R₁是氢、C1‑C9烷基、芳基、苄基、CF₃CO、R₄CO或R₅OCO；R₂是含C1‑C9烷基，CH₂NHR₆，CH₂X，CO₂H，CO₂R₇，R₄C(O)O；X=OH,CH₂OAC,CH₂N₃；R₃是氢、C1‑C9烷基、芳基或苄基；R₄是C1‑C9烷基、芳基或苄基；R₅是C1‑C9烷基、芳基或苄基；R₆是氢、C1‑C9烷基、芳基、苄基、CF₃CO、R₄CO或R₅OCO；R₇是C1‑C9烷基、芳基或苄基；上述各基团任选不被取代或被一个或多个选自由烷基、卤烷基、羟烷基、卤素、烷氧基或羟基组成的取代基取代；其特征在于，该方法包括以下反应式所示的步骤：