[发明专利]光敏共聚物，包含所述共聚物的光致抗蚀剂以及由其形成的制品

摘要

一种包含电子敏感的酸可脱保护单体如具有式(XX)的单体与共聚单体的聚合产物的共聚物：(XX)式中R^a是H,F,-CN,C_1-10烷基或C_1-10氟烷基；R^x和R^y各自独立地是取代或未取代的C_1-10烷基或C_3-10环烷基；R^z是取代或未取代的C_6-20含芳族基团或C_6-20含环脂族基团；其中R^x和R^y任选地一起形成环；R^x,R^y和R^z中的至少一个被卤代。还公开了一种包含所述共聚物的光致抗蚀剂和涂覆的基材，以及一种使用所述光致抗蚀剂制备电子器件的方法。

主权项

1.一种包含具有式(XX)的电子敏感的酸可脱保护单体和共聚单体的聚合产物的共聚物：其中R^a是H，F，-CN，C_1-10烷基或C_1-10氟烷基；R^x和R^y各自独立地是取代或未取代的C_1-10烷基或C_3-10环烷基；R^z是取代或未取代的C_6-20含芳族基团或C_6-20含环脂族基团；其中R^x和R^y一起任选地形成环；以及R^x，R^y和R^z中的至少一个被卤代。