[发明专利]具有可调节电容的等离子体处理系统的方法和装置

摘要

提供一种在等离子体处理室中处理衬底的方法。该衬底被置于卡盘上方并被边缘环围绕。该边缘环被从该卡盘电性隔离。该方法还包括向该卡盘提供射频电力。该方法还包括提供可调节电容装置。该可调节电容装置耦合于该边缘环以向该边缘环提供射频耦合，使得该边缘环具有边缘环电势。该方法进一步包括在该等离子体处理室中产生等离子体以处理该衬底。该衬底被处理而该可调节电容装置被配置为在处理该衬底的同时，按照所述衬底的直流电势动态调节所述边缘环电势。

主权项

一种在等离子体处理室中处理衬底的方法，所述衬底被置于静电卡盘上方并被边缘环围绕，所述边缘环被从所述静电卡盘电性隔离，该方法包含：向所述静电卡盘提供射频电力；使用耦合环组件以由所述静电卡盘向所述边缘环提供射频耦合，所述耦合环组件围绕所述静电卡盘，其中所述耦合环组件包括上耦合环和与所述上耦合环耦合的下耦合环，空腔被形成在所述上耦合环和所述下耦合环之间；传送介电材料进出所述空腔以改变所述耦合环组件的电容；以及在所述等离子体处理室中产生等离子体以处理所述衬底，其中，在等离子体处理过程中，调整所述耦合环组件的电容以最小化所述衬底和所述边缘环之间的电势差以获得对该衬底的一致刻蚀；以及调整所述耦合环组件的电容以最大化该衬底和该边缘环之间的电势差以执行对该衬底的斜缘清洁。