[发明专利]曝光值调整装置及曝光值调整方法有效
申请号: | 201310050835.3 | 申请日: | 2013-02-08 |
公开(公告)号: | CN103248828B | 公开(公告)日: | 2017-04-26 |
发明(设计)人: | 林嘉彦;武景龙;阙鑫地;许育诚;杨宏智;许丽君 | 申请(专利权)人: | 宏达国际电子股份有限公司 |
主分类号: | H04N5/235 | 分类号: | H04N5/235;H04N5/243 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司31100 | 代理人: | 施浩 |
地址: | 中国台湾桃园*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 本发明提供一种曝光值调整装置及方法。该曝光值调整装置包含一照相机模块以及一处理器。该照相机模块利用一基本曝光值撷取一基准影像。该处理器产生该基准影像的一直方图(histogram),利用一第一临限值及一第二临限值将该直方图划分成一低局部直方图、一中间局部直方图及一高局部直方图,根据该低局部直方图及该中间局部直方图决定一高曝光值,根据该高局部直方图及该中间局部直方图决定一低曝光值,并根据该高曝光值及该低曝光值决定一中间曝光值。该低曝光值低于该高曝光值,且该中间曝光值介于该高曝光值与该低曝光值之间。 | ||
搜索关键词: | 曝光 调整 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种曝光值调整装置,包含:一照相机模块,用以利用一基本曝光值撷取一基准影像;以及一处理器,电性连接至该照相机模块,且用以产生该基准影像的一直方图,利用一第一临限值及一第二临限值将该直方图划分成一低局部直方图、一中间局部直方图及一高局部直方图,根据该低局部直方图及该中间局部直方图决定一高曝光值,根据该高局部直方图及该中间局部直方图决定一低曝光值,以及根据该高曝光值及该低曝光值决定一中间曝光值。
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