[发明专利]曝光装置、曝光方法、元件制造方法及维护方法有效
| 申请号： | 201310051383.0 | 申请日： | 2005-06-07 |
| 公开（公告）号： | CN103439863A | 公开（公告）日： | 2013-12-11 |
| 发明（设计）人： | 白石健一 | 申请（专利权）人： | 尼康股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03B27/42 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人： | 寿宁 |
| 地址： | 日本东京都千*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明有关于一种曝光装置及元件制造方法，一曝光装置，根据液浸法而能高精度地进行曝光处理及测量处理。曝光装置(EX)，在投影光学系统(PL)的像面侧形成液体(LQ)的液浸区域(AR2)，透过投影光学系统(PL)与液浸区域(AR2)的液体(LQ)而使基板(P)曝光，其具备测量装置(60)，用以测量液浸区域(AR2)形成用的液体(LQ)的性质和/或成分。本发明还公开了元件制造方法及曝光装置的维护方法。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 方法 元件 制造 维护 | ||
【主权项】：
一种曝光装置，在投影光学系统的像面侧形成液体的液浸区域，并透过该投影光学系统与该液浸区域的液体使基板曝光，其特征在于具备：测量用以形成该液浸区域的液体的性质及成分中至少一者的测量装置；该测量装置，包含用以测量该液体中的全有机碳的测量器。
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