[发明专利]等离子体处理工艺的终点检测装置及方法有效

专利信息
申请号: 201310053655.0 申请日: 2013-02-19
公开(公告)号: CN103117202A 公开(公告)日: 2013-05-22
发明(设计)人: 杨平;黄智林;席朝晖;曹涵 申请(专利权)人: 中微半导体设备(上海)有限公司
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32;H01L21/66
代理公司: 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 代理人: 吴世华;林彦之
地址: 201201 上海市浦东新*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种等离子体处理工艺的终点检测方法,该等离子体处理工艺包括多个周期性的等离子体处理步骤,所述终点检测方法包括以一定时间间隔采集等离子体处理工艺过程中特定波长的实时光信号强度以获取多个实时光信号强度取样值并建立具有周期性的实时光信号强度谱线;在所述实时光信号强度谱线的每一周期内定义一个平缓区;在每一平缓区内抽取一个光信号强度特征值;根据光信号强度特征值建立光信号强度特征谱线;以及根据光信号强度特征谱线确定等离子体处理工艺的终点。本发明还提供了一种等离子体处理工艺的终点检测装置。本发明有效提高对于等离子体周期性扰动的工艺终点检测的准确性。
搜索关键词: 等离子体 处理 工艺 终点 检测 装置 方法
【主权项】:
一种等离子体处理工艺的终点检测方法,所述等离子体处理工艺包括多个周期性的等离子体处理步骤,其特征在于,所述终点检测方法包括:以一定时间间隔采集所述等离子体处理工艺过程中特定波长的实时光信号强度以获取多个实时光信号强度取样值并建立具有周期性的实时光信号强度谱线,所述实时光信号强度与所述等离子体处理工艺的反应物组分浓度或产物浓度对应;在所述实时光信号强度谱线的每一个周期内定义一个平缓区,所述平缓区内具有至少一个所述实时光信号强度取样值;在每一所述平缓区内的实时光信号强度取样值中抽取一个作为光信号强度特征值;根据所述光信号强度特征值建立光信号强度特征谱线;以及根据所述光信号强度特征谱线确定所述等离子体处理工艺的终点。
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